2026年1月7日下午，中国科学院大学现代产业学院成功举办题为《国际主流半导体先进工艺制造技术——以ASML为例》的科学前沿讲座。本次讲座采取双校区同步联动的形式，特邀ASML公司中国区客户服务团队北方区负责人李琦及其团队成员Lydia (Yue) Qi、Jia-Qi Liu、Yi-Bing Fan和Chia-Lin Hung共同授课，为玉泉路校区主会场与雁栖湖校区分会场的同学们带来了一场聚焦半导体制造技术与产业发展的深度分享。

玉泉路校区主会场

雁栖湖校区分会场现场

讲座内容围绕半导体基础知识、ASML产品与服务、光刻机系统结构、光刻性能优化四大核心模块展开，层层递进，既覆盖专业理论，又融合产业视角，为学生构建了从技术原理到产业应用的完整认知框架。

李琦以ASML发展历程为切入点，系统阐述了企业的行业定位与发展理念。他强调，在专业能力之外，积极心态、团队协作能力以及在高压环境下的快速学习能力，是ASML选拔人才的核心标准。

李琦讲座分享

Lydia（Yue）Qi通过生动比喻引出摩尔定律，深入浅出地阐释了集成电路晶体管数量与性能的迭代规律，继而详解芯片从设计到制造的完整流程，并以新能源汽车为例，特别指出光刻工艺在芯片制造中的核心地位。

Lydia（Yue）Qi讲座分享

Yi-Bing Fan详细介绍了ASML产品的应用场景与实际案例，展现了先进设备在不同产业中的支撑价值。

Yi-Bing Fan讲座分享

Jia-Qi Liu则聚焦光刻机内部结构，将复杂系统拆解为六个主要功能模块，逐一剖析其工作原理与协同机制。

Jia-Qi Liu讲座分享

最后，Chia-Lin Hung结合实践经验，从设备研发与客户合作视角出发，分享了如何通过需求分析、目标转化与技术优化，实现与客户的共赢发展，为讲座增添了鲜明的实践导向。

Chia-Lin Hung讲座分享

在交流环节，同学们踊跃提问，围绕光刻机结构原理、浸没式光刻技术发展趋势、企业人才需求等方面与嘉宾进行了深入互动。团队成员一一细致解答，既解开了同学们的技术疑惑，也让大家感受到国际顶尖企业的创新文化与务实精神。

本次讲座是学院深化“产学研融合”人才培养模式的生动实践。通过邀请国际半导体领军企业走进校园，不仅拓展了学生的技术视野与行业认知，也为学界与产业界搭建了深度对话的桥梁，有力推动了产学研协同发展。

学院将继续搭建高水平的学术交流平台，紧密对接国家战略与产业需求，引导学生树立科学精神、规划职业发展，努力培养更多具备产业视野与创新能力的复合型人才。期待同学们能将所学转化为动力，在半导体及相关领域积极探索，为科技强国与产业发展贡献智慧与力量。

图、文：杨悦皎、宋佩贞